首页 > 《洗净技术》 > 2003年06M期 > 硅片的化学清洗技术

硅片的化学清洗技术

在线阅读下载PDF 导出详情

摘要硅片经过切片、倒角、双面研磨、抛光等不同的工序加工后,其表面已受到严重的沾污,硅片清洗目的就在于清除晶片表面所有的微粒、金属离子及有机物等沾污.

DOI 3j798rgg41/2149005

作者张厥宗

机构地区不详

出处《洗净技术》 2003年06M期

关键词硅片化学清洗工艺原理兆声波清洗超声波清洗 RCA清洗

分类 [电子电信][物理电子学]

出版日期 2003年01月08日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

相关文献

1周小英. 太阳能级硅片化学清洗技术进展.教育学,2011-06.
2孙蕊. 硅片清洗方法及硅片清洗设备.文化科学,2022-04.
3王玉 ,霍文欢. 多晶硅片的表面清洗与制绒.,2023-05.
4孟祥蕊. 关于单晶硅片的清洗检验工艺分析与研究孟祥蕊.文化科学,2019-04.
5王思远;张山川(摄影). 烫金的硅片.企业管理,2013-12.
6张洪. 凝汽器半侧隔离在线化学清洗技术.电力系统及自动化,2020-05.
7蔡妃生. 锅炉化学清洗方法.建筑设计及理论,2018-12.
8刘凡. 板式换热器化学清洗技术研究.,2023-04.
9黎慧红. 锅炉的化学清洗技术探讨黎慧红.建筑设计及理论,2018-07.
10蒋亚庆. 化学清洗工艺及废液处理技术的发展.,2023-01.

来源期刊

洗净技术

洗净技术

相关推荐

同分类资源更多

相关关键词

硅片化学清洗工艺原理兆声波清洗超声波清洗 RCA清洗

返回顶部