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2013年2期
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X光单级衍射光栅的研究进展
X光单级衍射光栅的研究进展
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摘要
介绍了单级衍射光栅的应用背景及其基本理论,分析了单级衍射光栅与传统黑白透射光栅的不同之处.阐述了单级衍射光栅的制作技术,分析了以电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术为主的工艺路线的优缺点.综述了X光单级衍射光栅的发展历程以及存在的问题,并指出了其未来的研究方向.
DOI
rdxxnv01dl/1307625
作者
黄成龙;张继成;易勇;曹磊峰;王红斌
机构地区
不详
出处
《材料导报:纳米与新材料专辑》
2013年2期
关键词
X光单级衍射光栅
黑白透射光栅
电子束光刻
X射线光刻
分类
[一般工业技术][材料科学与工程]
出版日期
2013年02月12日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
材料导报:纳米与新材料专辑
2013年2期
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