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2014年12期
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摘要
应用材料公司推出存储器件先进图形生成解决方案日前，应用材料公司宣布与三星电子有限公司及韩国光刻去胶设备制造商PSK公司合作，开发出一款面向下一代NAND和DRAM存储器件的先进图形生成解决方案。
DOI
2d39eynnd9/1465819
作者
机构地区
不详
出处
《中国集成电路》
2014年12期
关键词
国际新闻
应用材料公司
存储器件
设备制造商
SK公司
三星电子
分类
[电子电信][微电子学与固体电子学]
出版日期
2014年12月22日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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来源期刊
中国集成电路
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