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微电子工艺中的清洗技术

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摘要本文指出了清洗工艺在集成电路制程中的重要性,详细介绍了目前广泛采用的几种清洗方法的清洗原理、特点、存在的问题以及发展的方向.

DOI zdl3l92zdl/2092616

作者刘玉岭;李薇薇;檀柏梅

机构地区不详

出处《洗净技术》 2003年07M期

关键词微电子工艺清洗技术表面活性剂兆声清洗湿法化学清洗束流清洗

分类 [电子电信][物理电子学]

出版日期 2003年09月25日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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