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兆声清洗技术与设备

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摘要随着半导体工业的迅速发展和器件水平(集成度、线宽)的不断提高,作为贯穿整个半导体器件生产工艺全过程的清洗工艺,其本身也在随着器件对洁净度要求不断提高的基础上而迅速发展着.兆声清洗技术就是在现已广泛应用的湿法清洗基础上发展起来的一种清洗技术.它与传统的湿法工艺相结合,可以有效去除0.2μm以下的颗粒,而且还可以大大提高传统工艺的生产效率和降低化学药剂消耗.

DOI wjvw7e1nd7/2092626

作者杨建忠;贾笑林

机构地区不详

出处《洗净技术》 2003年07M期

关键词兆声清洗技术清洗设备半导体工业高频超声波

分类 [电子电信][物理电子学]

出版日期 2003年02月13日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）