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大型涂胶显影机的设计要点
大型涂胶显影机的设计要点
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摘要
摘要
DOI
2d3r9zk7d9/5701167
作者
胡延兵
机构地区
沈阳芯达半导体设备有限公司,辽宁省沈阳市110000
出处
《科学与技术》
2021年27期
关键词
涂胶显影机
光刻胶
显影
光刻机
设计要点
分类
[建筑科学][建筑技术科学]
出版日期
2021年12月14日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
科学与技术
2021年27期
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