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ITO气敏材料的制备和掺杂工艺的研究进展

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摘要主要介绍了ITO薄膜的制备工艺和掺杂优化工艺，例举了两种气敏机理的推论以及掺杂优化的机理。指出今后ITO气敏材料的气敏机理将成为研究重点，新形态ITO材料的研发将成为主要发展方向。

DOI 3j7x6y1541/992077

作者封皓;陈敬超;周晓龙

机构地区不详

出处《材料导报：纳米与新材料专辑》 2011年1期

关键词 ITO气敏材料制备工艺掺杂优化气敏机理掺杂机理新形态

分类 [一般工业技术][材料科学与工程]

出版日期 2011年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

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