简介:研究了离子束辅助沉积(IBAD)制备氮化钛(TiN)重要参数氮钛到达比(N/Ti)对膜层性能的影响,并且采用俄歇谱分析(AES)、光电子谱分析(XPS)、X射线衍射分析(XRD)对膜层进行了相组成与成分分析,摸索了N/Ti对膜层的影响规律.
简介:采用离子束辅助沉积法(IBAD)在单晶硅片上制备了Ti-Si-N纳米复合薄膜,研究了轰击能量大小对Ti—Si—N纳米复合薄膜生长及力学性能的影响,同时探讨了轰击能量对Ti—Si—N纳米复合薄膜的生长机理的影响。通过原子力显微镜(AFM)、纳米压人仪、光电子能谱(XPS)和X射线衍射分析(XRD)等现代分析技术,对Ti—Si—N纳米复合薄膜的晶粒大小、力学性能、成分与相结构进行综合表征分析。试验结果表明:当轰击能量为700eV时,Ti-Si-N薄膜晶粒直径达到了最小值11nm,此时Ti-Si-N薄膜的硬度相对最高,为33GPa。
简介:为研究引信传爆管在快速烤燃作用下的热响应规律,对考虑导爆药柱作用的聚奥-9C(JO-9C)装药的引信传爆管进行了快速烤燃实验。利用Fluent对引信传爆管在60K/min升温速率下快速烤燃过程的热响应规律进行了数值模拟,并与烤燃实验结果进行了对比验证,标定了JO-9C的活化能与指前因子,分别为1.69×10^5J/mol与2.1×10^15s^-1。基于引信传爆管的快速烤燃实验和模型参数,对15、35、75K/min三种不同升温速率下引信传爆管的快速烤燃过程进行了数值模拟,结果表明:在引信传爆管点火时,传爆药柱先发生热反应,引起导爆药柱发生爆燃;在不同的升温速率下,点火位置均在传爆药柱边角;随着升温速率的增加,点火时传爆药柱边角处温度增加。
简介:本文采用《中国大学生心理健康量表》对近五年26473名C大学新生心理健康状况进行调查,结果表明,该校2011-2015新生的心理健康状况在性别、生源地、专业等方面存在显著差异,性别差异:大学新生中男生的心理素质显著高于女生;生源地差异:来自农村地区的新生自卑因子得分显著高于城市新生,整体来看,城市新生心理素质更好;专业差异:该校文史类新生心理健康总体水平显著低于理工类新生.本研究依照以上结论为依据提出了建好一个心理健康咨询中心、加强新生入学教育等相关建议,以期进一步推动大学生的心理健康教育工作的发展,使心理健康教育工作有针对性、计划性地开展下去.