简介：小工具数控抛光技术已成为ICF大口径光学元件制造的主工艺技术，由于这种工艺技术使用了比被加工元件外形尺寸小得多的抛光磨头来进行加工，所以被加工表面将呈现出不同于传统方法加工表面的特征。与传统抛光技术相比，被加工表面的某些频率成分可能增加，可能会对光学系统带来不良的影响。

简介：电火花加工过程中，间隙内进行能量转换，间隙状态的优劣直接影响脉冲电能的转换效果，在微细电火花加工过程中这种影响更加明显。同时，这也是评判放电加工是否顺利进行的主要标准。在科研生产过程中，需要对放电状态，特别是微细电火花放电加工过程中的波形进行研究，因此，组建了一套用于采集放电波形、检测放电状态的放电监测系统。

简介：TQ171.68497010634超精密光学抛光研究的进展及其发展趋势=Developmentandfeatureofultraprecisionopticalpolishing[刊,中]/滕霖,任敬心(西北工业大学.陕西,西安(710072))∥航空精密制造技术.—1996,32(3).—5—9综述了对精密光学抛光影响精度和质量的因素,对重要因素目前的研究进展进行了分析;介绍了新型

简介：O72395021325磨抛工艺中HgCdTe晶片的表面损伤=SurfacedamageofHgCdTewafersinlappingandpolishing[刊,中]/姚英,蔡毅,欧明娣,梁宏林,朱惜辰(昆明物理所.云南,昆明(650223))//红外技术.—1994,16(5).—15—20用X射线反射形貌术研究了磨抛工艺在用Te溶剂法和布里奇曼法生长的碲镉汞晶片表面引入的

简介：对于需要4轴或5轴联动才能完成加工的零件，需要借助一些数控加工软件（如UG／CAM，Cimatron，Powermill等CAM软件）来生成用于数控加工的刀具轨迹。由于各种CAM软件产生的刀具轨迹只是刀位原文件，而不是数控程序，因此，就需要把这些刀位原文件转换成指定数控机床能执行的数控程序。后置处理器就是要根据指定机床运动结构和控制指令格式，将CAM软件产生的刀位原文件转换成机床各轴的运动数据，并按其控制指令格式进行转换，成为数控机床可识别的数控代码文件。

简介：TN30597010636大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测-等离子发射光谱法=Insitumonitoringetchprocessandend-pointforLSIbytheplasmaemis-

简介：TN30595021329相移掩模的计算机模拟方法研究[学,中]/沈锋;中科院光电技术研究所.—62页.—1994.6研究了亚微米微细光刻技术的一个热门领域—相移掩模提高分辨率.从Hopkins理论出发,导出了一般情况下的二维物体的部分相干成像的简化强度

简介：针对离轴TMA结构空间相机中使用的两块离轴非球面反射镜的加工过程,提出了一种新型的矩形轴非球面的最接近球面半径的求解及其优化方法,并且开发了基于计算机虚拟加工技术的CC()S工艺参数计算方法。被加工工件分别为165mm义100mm的矩形凸面

简介：论述了离子束曝光技术的原理、特点,分析了其面临的关键技术问题,如掩模技术、离子源技术、图像对准技术等,并介绍了这些年来国外的一些研究机构及公司在离子束曝光技术上的研究进展及

简介：TN305.72002032298光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量=Opticalproximitycorrectionforimprovingpatternqualityinsubmicronphotolithography[刊,中]/石瑞英(四川大学物理系.四川,成都(610064)),郭永康(中科院微电子中心.北京(100010))//半导体技术.-2001,26(3).-20-26论述了近年来光学邻近校正技术的进展,讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法,并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。图8表1参14(李瑞琴)TN305.72002032299光刻技术在微细加工中的应用=Applicationoflithographytechnologytomicroelectronicmanufacturing[刊,中]/刘建海(上海先进半导体制造有限

简介：随着“神光”-Ⅱ的运行和“神光”-Ⅲ原型的即将建成，物理实验数据、实验参数以及各探测器的实验记录也将越来越多。为了方便物理实验人员对实验数据进行后续处理，必须建立有效的数据管理和查询系统。系统建立的ICF物理实验数据查询系统，实现了对实验参数和数据有效的管理和利用，该系统应用计算机网络技术及数据库技术，并用Web网页浏览的方式．以方便相关物理实验人员对实验参数和实验数据的查询和调用，即时全面了解实验状况，从而有利于对实验数据进行分析，指导下一步的具体实验。

简介：摘要近年来，随着社会经济的发展，人们在提高生活品质的同时，也增加着对电力的需求，导致电力系统容量增加、规模扩大，一旦系统运行中出现故障，就会引发重大事故，威胁人身安全。因此，做好电力设备的状态监测、故障诊断工作尤为重要。对此，本文从电力系统设备状态监测、故障诊断含义出发，首先分析了状态监测技术，然后探讨了故障诊断技术，供同行参考。

简介：远程FEA服务系统的总体结构采用B／S模式的3层网络体系结构，如图l所示，主要的网络管理功能和应用程序等都集中在服务中心。其工作流程为：用户通过浏览器访问FEA服务中心的Web服务器进行登录，系统验证用户身份后，根据用户权限进入操作页面。如果用户有委托分析的合作意向，可通过在线商务功能模块与服务中心采用视频会议、电子白板或NetMeeting等形式进行初步的分析任务描述和讨论，确定分析结果的形式、完成时间以及费用等，并最终签订委托合同，由服务中心分配给该客户唯一的分析任务编号和密钥。授权合同用户通过E—mail或FTP等文件传输工具将零件电子图纸和文档、使用条件和分析要求等数据和信息上传到服务中心后，分析服务功能模块必须根据客户提交的信息及委托的分析任务需求经过FEA过程规划和优化决策出最佳的分析方案，

简介：研究了WWW和基于Web的信息系统的基本特性和相关技术,给出基于Web的空间天气信息系统框架的初步设计。

简介：TQ171．652005032360利用计算机辅助装调检测矩形大口径离轴非球面的方法研究=Studyontestingmethodsoflarge-aperturerectangleoff-axisasphericalsurfacewithcomputeraidedalignment[刊,中]／杨晓飞(中科院长春光机所．吉林,长春(130022)),韩昌元∥光学技术．-2004,30(5)．-532-534通过非球面的零位补偿法,完成了对矩形大口径离轴非球面镜的检测。先用光学设计软件Zemax从理论上分

简介：TN305．72005032365硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用=Fabricationofsilicon-basedmicrostructuresandtheirapplicationinmi-crochipsE刊,中]／孙洋(清华大学深圳研究生院．广东,深圳(518057)),钱可元…∥半导体光电．-2004,25(6)．-477-479,483基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构,以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)Si材料进行了湿法刻

简介：本文介绍的锅炉水质分析与监测系统，可以连续在线监测锅炉供水的氯离子浓度、硬度和ｐＨ值。它为锅炉的安全生产与自动控制提供了条件。

简介：讨论核反应堆系统散射裂变截面的最小范数控制问题.在一定条件下证明了最小范数散射裂变截面控制变量的存在性和唯一性,并给出其相应的优化条件.

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简介：TH70397063910杂散光测试仪电路设计=Circuitdesignonstraylighttestingequipment[刊,中]/张尧(上海光学仪器研究所.上海(200093)).∥光学仪器.—1996,18(3).—29—32