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水基清洗的四个基本因素

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摘要影响清洗工艺的因素主要有四个：化合物、温度、能量和时间。不同因素的结合可确定元件清洗的洁净度。本文对每种类型清洗工艺的基本因素进行了调查研究，其对于你确定哪一种工艺最适合于你的应用需求是很有帮助的。

DOI lpd50oow47/234395

作者候瑞田

机构地区不详

出处《现代表面贴装资讯》 2004年4期

关键词基本因素应用需求影响调查研究帮助类型

分类 [电子电信][物理电子学]

出版日期 2004年04月14日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）