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58 个结果
  • 简介:青少年下颌骨畸形(后缩、发育不足或生长过度)的矫形治疗是口腔正畸学中的重要组成部分,临床已广泛应用。但能否有效地刺激下颌骨的生长或抑制下颌骨的生长,多年来一直存在着争议。尽管大量动物实验研究表明:后上牵引下颌骨可抑制其生长〔1〕,功能前伸下颌能明显促...

  • 标签: 下颌骨 应力分布 下颌髁突 阻力中心 松质骨 应力轨迹
  • 简介:牙齿松动是指自然牙或种植体在受力作用时的活动程度,是临床上作为牙周疾病诊断、治疗、预后的评估,以及修复治疗设计的一个重要参考指标.本文对牙动的生物学特性、牙动的相关因素及牙动测量的研究状况作一综述.

  • 标签: 牙齿松动度 牙周组织 牙周膜 修复 生物学特性
  • 简介:2010年,共有下列70名专家为《中国口腔颌面外科杂志》认真审稿,特此提名致谢!(按姓名的汉语拼音顺序排列)

  • 标签: 致谢 专家 口腔颌面外科 汉语拼音
  • 简介:患者,女,21岁,主诉:牙齿不齐,要求隐形矫治.一、临床检查面型左右对称,基本直面型。口腔卫生状况较差,恒牙列。两侧磨牙中性关系,上颌双侧尖牙缺失,前牙Ⅲ深覆殆,上颌双侧侧切牙畸形过小牙并且反骀,上牙弓拥挤2mm,下牙弓拥挤9mm,下中线右偏1mm。

  • 标签: 双侧尖牙缺失 拔牙矫治 深覆(牙合) 隐形矫治器 Ⅲ度 患者
  • 简介:目的模拟手术辅助腭扩展术,分析上颌骨复合体应力分布与位移趋势.方法在力学相似性较高的上颌骨复合体三维有限元模型上,模拟第一磨牙处颊侧骨皮质切开辅助腭扩展术,计算各标志点的应力及位移,所得结果与常规腭扩展相比较.结果颊侧骨皮质切开术辅助腭扩展开展牙弓,可有效增加横向扩展的位移,尤其在尖牙和前磨牙区.同时鼻腔和腭盖下降,有助于降低通气阻力.结论颊侧骨皮质切开辅助腭扩展的方法效果确切.

  • 标签: 应力分布 模拟手术 上颌复合体 位移 骨皮质切开术 上颌骨复合体
  • 简介:由于光固化灯发出光照不均一,使得复合树脂(rbc)修复体因单体析出或内部收缩应力而导致不充分或过度固化,从而降低了rbc修复体使用寿命.该研究是为了确定两种光固化灯的光照分布及其对复合树脂材料局部的机械强度的影响.

  • 标签: 光固化灯 表面显微硬度 牙科树脂 光照 复合树脂材料 收缩应力
  • 简介:箭牌公司携手IADR推出“2010~2011年SalivaryResearchAward”,旨在奖励口腔学生及口腔专业人员在唾液方面的杰出科研成果。获奖者将有机会获得1500~2000美金的奖金,参与2011年3月16—1913在美国举行的第89届IADR大会。有兴趣者,

  • 标签: 唾液 征文 IADR 口腔专业 获奖者
  • 简介:目的:分析单个下颌磨牙缺失采用种植修复时,种植体尺寸对骨界面的应力分布的影响.方法:采用三维有限元法,模拟单个种植体及双种植体修复单个缺失下颌第一磨牙的情况,在保证其它因素不变的条件下,分析种植体尺寸(包括种植体长度和直径)对种植体-骨界面应力分布的影响.结果:不论单种植体修复或双种植体修复单个缺失磨牙时,种植体直径变化对种植体-骨界面应力影响较大,斜向载荷时更为明显;而种植体长度对骨界面应力影响较小.结论:建议临床尽量采用直径较大的种植体修复单个缺失下颌磨牙.

  • 标签: 骨界面 种植体 下颌磨牙 种植修复 牙缺失 影响
  • 简介:目的:分析下颌下腺导管内结石的位置和形态,研究结石的分布规律。方法:对连续就诊的65例下颌下腺导管结石患者通过口底双合诊和下颌横断片判断结石的位置,手术取石,其中57例经口内直接切开导管取石或内镜辅助下取石,8例行下颌下腺切除术后取石,观察、测量术后所取结石的形状和大小。结果:下颌下腺导管结石在导管中发生的位置由前向后依次升高,62.5%患者结石位于导管的后段,结石以圆形和椭圆形为多,位于后段者体积多较大。结论:下颌下腺导管结石好发于导管后段,原因可能与导管后段的某些特殊解剖形态有关。

  • 标签: 涎石病 涎石 下颌下腺导管
  • 简介:目的:通过Hertel眼球突测量计测量新鲜尸体上眼球突与眼眶容积的变化,得到两者之间的直线关系。方法:选择新鲜尸体5具共10侧眼眶,将气管插管的气囊部分置入眶底与眶骨膜之间,用注射器注入7ml生理盐水,每抽出1ml生理盐水后,用Hertel眼球突测量计测量眼球突,共得到80个数据,采用SAS6.12软件包进行统计学分析。结果:眼球突与眼眶容积之间呈线性相关关系,Y=8.57-0.96X(r=-0.86,P=0.0001≤0.05)。结论:气管插管球囊是一种测量眼眶容积变化的有效实验工具。新鲜尸体上眼球突与眼眶容积增量之间存在直线相关关系。

  • 标签: 眼球突度 眼眶容积 新鲜尸体
  • 简介:目的:研究上中切牙不同基底冠材料全瓷冠受载时的应力分布特点。方法:运用逆向工程软件构建上颌中切牙全瓷冠(双层冠结构)的三维有限元数值模型,选择氧化锆全瓷冠、氧化铝全瓷冠为实验组,贵金属烤瓷冠为对照组,施以不同部位静态载荷模拟加载,分析其应力分布趋势的异同。结果:应力分布云图显示,不同基底冠材料的全瓷冠应力分布趋势相同,载荷区和全冠颈缘为应力集中区,其中应力极值点位于载荷点。不同基底冠材料全瓷冠的应力值不同,随着材料弹性模量的增加,基底冠的等效应力极值相应增加,而饰面瓷则适当减小;基底冠弹性模量的增加也会使得基底冠与预备体界面、基底冠与饰面瓷界面以及邻面颈缘的张应力显著提高,饰面瓷的张应力则稍有下降。结论:高弹性模量基底冠可降低上中切牙全瓷冠饰面瓷的折裂风险。

  • 标签: 全瓷冠 三维有限元 基底冠 饰面瓷 应力分布
  • 简介:目前种植技术在无牙颌患者中应用广泛,但随之亦发现种植固定义齿的一些不足,所以种植覆盖义齿应运而生,并以其特有的优势得到了越来越多的关注.那么种植体支持的覆盖义齿在固位方式、种植体的数量和植入部位等方面该如何选择和把握呢?本文利用三维有限元的分析方法.研究受力状态下的无牙颌种植覆盖义齿应力分布状况,并对应力分布的影响因素进行探讨.拟为种植覆盖义齿应力分布均匀,优化种植覆盖义齿的临床修复设计提供理论依据,从而提高种植覆盖义齿的远期成功率。

  • 标签: 种植覆盖义齿 应力分布 有限元分析
  • 简介:目的研究代谢性谷氨酸受体第5亚型(mGluR5)在牙髓各部位中的表达及分布。方法收集2009年7月至2010年1月山东大学口腔医院口腔颌面外科因正畸或其他治疗需要而拔除的健康前磨牙或第三磨牙5例,制成一系列石蜡切片,利用免疫组化方法检测牙髓各部位mGluR5的表达及分布情况,利用图像分析系统对其表达强度进行半定量分析,探讨mGluR5在牙髓中的作用和意义。结果正常牙髓从冠部、颈部到根部牙髓成牙本质细胞中mGluR5表达均呈阳性,且由冠部、颈部到根部mGluR5表达强度依次降低。结论mGluR5在牙髓疼痛传递过程中可能具有一定的作用。

  • 标签: 代谢性谷氨酸受体第5亚型 牙髓 成牙本质细胞 免疫组化
  • 简介:目的:探讨心理疏导对老年患者全口义齿修复效果的影响.方法:选择就诊于聊城市人民医院口腔修复门诊160例无牙颌修复患者,实施心理疏导,实验组80例;未进行心理疏导,对照组80例.全口义齿修复过程中,对心理疏导组患者进行系统的和有针对性的口腔健康教育和心理疏导,调查患者修复后第一个月和第三个月的全口义齿满意及通过对义齿牙面食糜宽度的测量进行效果评估.结果:实验组和对照组中各组患者试戴全口义齿第1个月与第3个月满意相比,语音、固位、舒适性差异均有统计学意义(P<0.05);实验组和对照组相比较,第1个月和第3个月的语音、咀嚼、固位、舒适性也存在差异,并且有统计学意义(P<0.05).心理疏导组患者全口义齿牙面食糜宽度为(0.39±0.13)ram,未进行心理疏导组为(1.78±0.04)mm,差异有统计学意义(P<0.01).结论:对无牙颌患者进行心理疏导可提高其对全口义齿的满意和修复治疗效果.

  • 标签: 无牙颌 心理疏导 满意度
  • 简介:2014年12月14日,InternationalJournalofOralScience(IJOS)2015年主编工作会议在成都召开,创刊主编王存玉院士、主编周学东教授、执行主编叶玲教授、编辑部主任王晴编审等参加了会议。

  • 标签: 主编 成都 周学东 编辑部 会议
  • 简介:目的探讨面突角对美观侧貌唇突的影响。方法选取侧貌较好的男女成人各一名,描绘其头颅侧位片的侧貌轮廓,制作成剪影图作为标准侧貌,利用图像处理技术改变标准侧貌的颏部位置,各获得5张具有不同面突角(面突角正常、增加5°、增加10°、减小5°、减小10°)的剪影图。在此基础上以E线为参考线,将各剪影图的上下唇分别后移1mm和前移1mm各4次,每张剪影图分别得到9幅具有不同唇突的侧貌图。选择180名大学生对侧貌图进行审美评价。结果面突角正常时相对后缩的唇突最受欢迎;随着面突角的增加,人群倾向于喜爱略微前突的唇部位置;而随着面突角的减小,人们则倾向于喜爱更加后缩的唇部突。结论面突角对美观侧貌的唇突有显著影响,面突角不同,唇突的审美标准亦不同。对不同错验类型的临界拔牙患者进行矫治设计时应考虑面突角对唇突的影响。

  • 标签: 面突度 唇突度 侧貌
  • 简介:目的探讨不同饰瓷和核心瓷(牙合)面厚度对双层结构氧化锆全瓷冠内部应力分布规律的影响,为临床修复设计提供依据.方法本研究于2012年3-7月在清华大学计算机教研室进行.利用螺旋CT断层图像,构建上颌第一磨牙氧化锆全瓷冠(核心瓷层和饰瓷层)、黏结剂层、牙体组织、牙根、牙周膜、牙槽骨6部分的三维有限元模型,设计垂直集中载荷600N的加载方式,观察不同饰瓷(牙合)面厚度(V)与核心瓷(牙合)面厚度(C)两因素变化对全瓷冠的最大主应力(S1)分布情况.结果随着饰瓷厚度增加,饰瓷本身的应力先减小后上升,即饰瓷厚度为0.7mm时,S1为73.20MPa;厚度升至0.9mm时,S1下降至54.56MPa;厚度升至1.7mm时,S1则上升至60.16MPa.而随着核心瓷厚度增加,核心瓷的应力在减小,即核心瓷厚度为0.3mm时,S1为ll6.40MPa;厚度升至1.3mm时,S1下降至4.17MPa,其应力峰值下降幅度为96.75%.结论对全瓷冠的应力分析,得出双层全瓷冠的V和C范围:0.9mm≤V≤1.5mm,C≥0.5mm.这就要求在全瓷冠临床预备过程中,必须留出至少1.4mm的空间,即为两者最低限之和.

  • 标签: 全瓷冠 有限元分析 应力 饰瓷 核心瓷