硅外延片表面“绿雾”缺陷研究及解决方案

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摘要 摘要本文研究表面“绿雾”缺陷外延片的成因,发现“绿雾”片与正常片对比金属杂质含量无差异,粗糙度方面“绿雾”片要更大一些。通过外延工艺试验发现衬底与外延界面不同是造成“绿雾”的原因,“绿雾”缺陷可通过衬底RAC清洗,或外延前氢气高温加热来对界面进行处理,进而消除。最终通过杜绝“绿雾”片产生,提高了外延成品率,降低了成本。
出处 《电力设备》 2017年19期
出版日期 2017年12月22日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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