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2017年19期
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硅外延片表面“绿雾”缺陷研究及解决方案
硅外延片表面“绿雾”缺陷研究及解决方案
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摘要
摘要本文研究表面“绿雾”缺陷外延片的成因,发现“绿雾”片与正常片对比金属杂质含量无差异,粗糙度方面“绿雾”片要更大一些。通过外延工艺试验发现衬底与外延界面不同是造成“绿雾”的原因,“绿雾”缺陷可通过衬底RAC清洗,或外延前氢气高温加热来对界面进行处理,进而消除。最终通过杜绝“绿雾”片产生,提高了外延成品率,降低了成本。
DOI
ojz5gylzj5/3104670
作者
庞伟龙李杨
机构地区
(中国电子科技集团公司第四十六研究所天津市300220)
出处
《电力设备》
2017年19期
关键词
成本
&ldquo
绿雾&rdquo
金属杂质含量
粗糙度
界面
分类
[电气工程][电力系统及自动化]
出版日期
2017年12月22日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
电力设备
2017年19期
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