用常压气相沉积法镀膜制得的二氧化钛薄膜为催化剂,以紫外灯为光源,研究了亚甲基蓝的光催化降解。实验表明:镀膜时基片温度为200℃;用铜线作为底物,在染料溶液中加H2O2,可提高光催化活性。更多还原
能源化学:英文版
2001年4期