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《印制电路信息》
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2003年10期
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高锰酸钾法去钻污能力的研究
高锰酸钾法去钻污能力的研究
(整期优先)网络出版时间:2003-10-20
作者:
孙忠强
电子电信
>微电子学与固体电子学
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资料简介
本丈主要介绍了高锰酸钾法,去钻污剂DM-120A、B(大连太平洋化工有限公司产品)温度、时间、总锰含量、当量浓度的改变对去钻污速率的影响.
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本丈主要介绍了高锰酸钾法,去钻污剂DM-120A、B(大连太平洋化工有限公司产品)温度、时间、总锰含量、当量浓度的改变对去钻污速率的影响.
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高锰酸钾法
去钻污剂
DM-120A
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