学科分类
/ 3
53 个结果
  • 简介:10月25日,佰利联与香港三盛实业公司和泉州三威化工有限公司签署《收购股权意向书》,拟收购香港三盛持有的江西添光化工有限责任公司41.863%~股权和泉州三威化工持有的江西添33.137%的股权。

  • 标签: 江西 控股 股权 化工 收购 泉州
  • 简介:本文通过氯乙烯/交联剂悬浮聚合合成了含有部分凝胶结构的消PVC专用树脂,讨论了交联剂,聚合温度,分散剂及引发剂等对消性能的影响。并初步分析了树脂的加工性能。

  • 标签: 消光PVC 聚氯乙烯 悬浮聚合 合成 研究
  • 简介:使用合适的光敏剂与反应单体,对真丝绸表面进行紫外光照,旨在丝绸表面接枝上一段聚合物。进而改善真丝绸的易皱。易缩水等缺点。研究比较了不同实验方案对接枝率的影响。并对改性前后的真丝绸做了性能测试。发现用光接枝改性后的真丝绸在抗皱性、抗缩水率、上染率、耐洗色牢度等4个方面的性能都得到了明显的改善。

  • 标签: 真丝织物 光接枝改性 光敏剂 反应单体 抗皱性 抗缩水率
  • 简介:本文研究了PVC消树脂的结构特点及其对材料加工性能、物理机械性能的影响,结果表明:消树脂使材料的加工难度增加.而通过加入ACR加工助剂,能有效改善PVC消树脂的加工性能;随着消树脂用量的增加.材料的拉伸强度略有下降,断裂伸长率无明显变化;消树脂对材料的电性能影响不大。同时,进行了消树脂挤出、注塑、压延制品方面的应用性研究。结果表明:消树脂对注射制品的光泽度改变不大,而对挤出、压延制品有较好的消效果。

  • 标签: PVC消光树脂 ACR加工助剂 聚氯乙烯 中试生产 凝胶含量 体积电阻率
  • 简介:涂料中的消剂是一类能够改变涂膜表面光学性能的助剂。这类助剂能够在涂膜表面产生预期的微粗糙度,以便使涂膜的光泽显著降低。如果在涂料中加入颜料或者填料,使之凸现于涂膜青表现,也可以向涂膜表面引入微粗糙度。表面的颗粒越多,微粗糙度直大,光泽度越低。生产无光涂料可以使用填料(例如轻质碳酸钙和滑石粉等),但所需要的用量较高,常常会超过涂料的临界颜料体积浓度而使涂膜的物理性能变差,而敷衍消剂则可以避免这一问题。

  • 标签: 二氧化硅 消光剂 涂料 性能 孔隙率 粒径
  • 简介:3月18日,青岛红星发展股份有限责任公司与湖北黄石锶发矿业有限责任公司正式签约合作。这意味着在未来3—5年内,伴随着6万/a碳酸锶项目的投产,黄石将成为世界新的碳酸锶基地。该项目总投资1.5亿元。项目建成后,将形成6万t/a碳酸锶、1.2万t/a副产品硫磺的生产能力,年销售额达2亿元,年利税达3000万元。

  • 标签: 碳酸锶 世界级 黄石 项目总投资 建设 生产能力
  • 简介:文章介绍了新型3列5无水润滑氧压机的设计依据及特点、主要设计参数、结构形式及流程。

  • 标签: 氧压机 无水润滑 新型
  • 简介:提供了制备纳米碳酸钙的方法,通过在石灰乳碳化过程中加入晶型控制剂如:分子量为500-15000的聚丙烯酸、柠檬酸等,控制晶型及晶体大小。当用柠檬酸为晶型控制剂时,其加量一般为石灰乳的5-15%。

  • 标签: 晶型控制 纳米级碳酸钙 制备方法 碳化过程 柠檬酸 石灰乳
  • 简介:1涂料用二氧化硅消剂的性能要求对传统涂料的消研究表明.有效的消或降低光泽有赖于涂层表面形成微细的粗糙表面。涂层要形成微细的粗糙表面必须具备两个条件:一是漆膜中存在大量粒径适宜的消剂颗粒.二是涂膜干燥过程中产生体积收缩。涂料中所使用的消剂应能满足以下基本要求:

  • 标签: 二氧化硅 消光剂 粗糙表面 涂料用 性能要求 体积收缩
  • 简介:地区安徽发布时间2012—12.10项目性质新建企业性质股份制项目简介该项目位于安徽省合肥新站区新蚌埠路和礼河路交口,由合肥茂丰电子科技有限公司投资建设,项目建成后年产2万t电子氢氟酸。项目总投资2000万元。

  • 标签: 氢氟酸 电子级 生产项目 项目总投资 发布时间 投资建设
  • 简介:介绍了牙膏磷酸氢钙的主要生产方法及特点,并就每一种生产工艺的优点及不足作了评价;通过对不同生产条件进行比较,提出了适宜的工艺路线,在分析国内牙膏生产现状的基础上,对牙膏磷酸氢钙的发展及市场前景进行了展望.

  • 标签: 生产工艺 牙膏 磷酸氢钙 磨料 原料 骨炭法
  • 简介:关于在光照下,氯乙烯单体的聚合方法。混合物包括:液体氯乙烯单体;最好为(50-125)×10^-6的茂金属催化剂;相对1mol催化剂,含量为1-2000mol的含铝助催化剂;相对1mol含铝助催化剂,含量为500mol的路易斯碱。含铝助催化剂中所选的烷基基团要连接在PVC链的末端。

  • 标签: 氯乙烯 聚氯乙烯 光聚合反应 茂金属 催化剂 PVC
  • 简介:制备分析样品的方法:将欲被分析的杂质从磷酸中单独沉积下来并与磷酸分离;分析杂质的方法:将杂质从磷酸中单独沉积下来并与磷酸分离;再对分离的物质进行分析;制备高纯磷酸的方法:从待净化的磷酸中单独沉积出杂质并进行分离;制备半导体元件的方法:用磷酸作处理液,该磷酸的杂质含量(由所含的放射性元素Pb,Bi和Po的浓度确定),不大于10^-3Bq/ml(Bq,贝克勒尔,放射性单位)。

  • 标签: 半导体 磷酸 制备方法 定量分析法 PH值