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  • 简介:近期获悉,据赛公司表示,2005年赛2005年的任务是继续扫除喷墨技术应用的障碍,清除人们对这一技术的顾虑,推动数码印刷的发展。

  • 标签: 障碍 公司 顾虑 数码印刷 发展 技术
  • 简介:多中继复用系统因其在通信传输性能和优化资源配置方面的潜力而成为深入研究的热点领域。大量的研究工作虽然提出了一些新的中继选择总体机制,仍缺乏新的针对多中继选择的配置算法。因此针对多中继选择和系统资源配置,提出了一个基于叶斯优化算法的多中继选择策略。该策略在信道容量和通信能耗两方面对协作通信传输进行优化。通过仿真表明,提出的多中继选择策略可以明显增加信道容量并延长系统生命周期,达到了提升通信性能和优化资源配置的目的。

  • 标签: 贝叶斯优化算法 空间复用 多中继选择 信道容量 系统生命周期
  • 简介:针对现有二站纯方位目标定位方法的不足,提出了二站纯方位定位误差估计的近似叶斯方法.首先,采用二元函数的一阶微分线性近似对后验联合概率密度函数进行泰勒展开;然后,推导出二站纯方位目标定位的近似叶斯区域估计的解析表达式,即定位误差的置信区域;最后,仿真试验验证了该方法的有效性.研究结果对于合理布置无源传感器以提高定位精度具有一定参考价值.

  • 标签: 电子对抗 纯方位定位 贝叶斯估计
  • 简介:未来战争中指挥信息系统将会遭受复杂多变的赛博攻击,现有方法无法准确评估赛博攻击对任务执行造成的影响程度,提出了一种基于叶斯网络的核心任务多因子影响估计方法。首先,根据系统内部调用关系,建立了系统对象依赖图,捕获攻击影响传播到其他对象的途径;然后,在系统对象依赖图基础上,构建了任务—任务功能—资源(MTA)映射关系,将赛博攻击影响与任务进行关联;最后,通过采集赛博攻击情况下的资源监测数据,利用叶斯网络进行任务影响估计,从而评估赛博攻击对任务造成影响的概率,为指挥员决策提供可靠依据。

  • 标签: 任务影响估计 贝叶斯网络 系统对象依赖图 任务资源映射
  • 简介:从20世纪90年代中期开始,体系结构研究和应用受到各国军方关注。体系结构工具是体系结构研究和应用中的关键技术。对体系结构工具进行评估是一个全新的领域。文章探讨了体系结构工具评估的问题,构建了初步的工具评估指标体系,提出了一个应用叶斯网络模型构建的工具评估的概率模型,并基于开源软件包BNT开发了评估模型的matlab程序,对三种体系结构工具进行了评估。

  • 标签: 体系结构工具 评估 贝叶斯网络
  • 简介:<正>英特公司宣布,由于竞争越来越激烈,该公司将进一步增强手提电脑芯片的节能特色,并且在2001年开始将新款的奔腾芯片推向市场。英特公司展示了两种芯片:一种是耗能2W的1-GHz奔腾Ⅲ和耗能0.5W的500-MHz奔腾Ⅲ。该公司说,这两种类型的芯片都将在2001年的上半年面世。现在,越来越多的电脑生产厂家决定使

  • 标签: 手提电脑 英特尔公司 电脑芯片 生产厂家 2001年 奔腾Ⅲ
  • 简介:Soitec董事长兼首席执行官近日透露,苹果iPhone6s已经在SOI(绝缘体上硅)的基质甚至是长时间带阻滤波器的SOI上使用多个射频(RF)芯片。与此同时,Intel和IBM正使用SOI工艺推动硅光子发展。虽然SOI工艺成功之路历经坎坷,但目前已步入向主要市场渗透的正轨。格罗方德高级副总裁兼总经理RutgerWijburg甚至声称FD-SOI(全耗尽绝缘硅)在四年内的销售量将超过FinFETs。

  • 标签: IBM SOI 绝缘体上硅 带阻滤波器 罗方 副总裁
  • 简介:米特有限公司将在“全国电子周”第C18号展台推出一种新型沉浸式焊膏。这种焊膏具有强大的粘合性与润湿力,适合处理回流期间封装严重翘曲问题,以及堆叠封装助焊应用。阿米特的新型LFM48N沉浸式焊膏可有效代替以往用于球栅阵列堆叠封装(PoP)设备应用的胶状焊膏,并可理想地用于固定容易在回流期间发生翘曲的大型设备。这种新型焊膏结合了多个超细焊球和一种助焊剂,

  • 标签: 阿尔米特有限公司 新型沉浸式焊膏 胶状焊膏 焊球 助焊剂
  • 简介:英特将于4月11日~13日在新西兰奥克兰市举办2007年度英特解决方案峰会(ISS)。本次盛会将为英特亚太及中国地区的顶级客户与合作伙伴提供解创新平台和技术以及这些平台和技术为他们带来的无限商机的绝佳机会。

  • 标签: 英特尔 创新平台 奥克兰市 合作伙伴 中国地区 新西兰
  • 简介:诺基亚公司(Nokia)和英特公司(Intel)近日表示,他们将联手推动WiMax技术作为移动宽带接入标准。这次合作也意味着全球最大的芯片制造商和最大的手机制造商力图加快高效能芯片的研发,并利用于移动设备、笔记本电脑和基站。

  • 标签: 宽带接入 标准 WIMAX技术 英特尔公司 诺基亚公司 手机制造商
  • 简介:<正>根据网站SemiconductorReporter报导,英特科技策略主管暨半导体ITRS主席PaoloGargini日前在美旧金山SemiconWest专题演讲中表示,摩尔定律(Moore’sLaw)还活得好好的,未来15~20年仍未有变化,别急着将互补性金属氧化物半导体科技判死刑,预估CMOS制程科技还有20年日子,英特估计到2030年将进入0.016μm制程世代,不过,就半导体设备商的立场来看,现在应可开始为CMOS后继者所需导入全新的设备研发预作准备。

  • 标签: 半导体设备 摩尔定律 设备研发 专题演讲