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14 个结果
  • 简介:用X射线摇摆曲线和掠入射衍射、透射电镜、原子力显微镜等实验技术研究了MBE方法生长的Si缓冲生长温度对SiGe/Si异质结结构的影响。结果表明,所研究的SiGe外延晶格发生完全弛豫,但表面粗糙度和界面失配位错随Si缓冲的生长温度而变化,最佳生长温度为450℃;缓冲晶格应变是达到高质量SiGe外延的主要原因。

  • 标签: Si缓冲层 生长 温度 SiGe外延层结构 X射线 晶格
  • 简介:选取不同化程度的五种样并制成600℃和800℃的半焦,应用同步辐射小角X射线散射研究了其亚微观孔隙结构,得到孔径分布,孔隙率,比表面,分形维数等许多结构参数,这些参数随化程度和所制半焦温度的不同大都呈现一定的变化趋势。

  • 标签: 半焦 孔隙结构 SAXS研究 测试
  • 简介:选取不同化程度的五种样并制成600℃和800℃的半焦,应用同步辐射小角X射线散射研究了其亚微马孔隙结构,得到孔径分布、孔隙率、比表面、分形维数等许多结构参数,讨论了这些参数的变化规律。

  • 标签: 孔径分布 孔隙率 比表面 分形维数 半焦
  • 简介:通过原位担载法将铁系催化剂担载于表面,考察了催化剂前驱体的相态、配位环境以及在载体表面的分散状态。采用X射线吸收精细结构和X射线衍射法对原位担载型铁系催化剂前驱体进行了表征。结果表明,催化剂前驱体在表面以非晶态、高分散的形式存在,其化学组成主要为FeOOH,且催化剂前驱体的分散程度与载体的物理化学性质有关。

  • 标签: 表征 硫化铁 原位担载 催化剂 前驱体 煤液化
  • 简介:利用同步辐射对合成金刚石晶体中面状缺陷进行了形貌学研究。在晶体中观察到多个错和一个由两个错三角形组成的错四面体。计算了错及错四面体各个边界的方向指数,确定了各个错的面指数。根据错的消像规律.确定了各个错的位移矢量。除一个错为Frank型简单层错外。其余错皆为既具有Frank位移,又具有Shockley位移的复合型错。分析了错的形成机理。错尺寸火小在0.68-1.15mm之间,是前人在合成及天然金刚石中从未见到的。

  • 标签: 合成金刚石晶体 层错 同步辐射 方向指数 位移 面状缺陷
  • 简介:本文采用多功能四圆X射线衍射仪测绘出立方相GaN/GaAs(001)外延的极图和倒易空间mapping,研究了六角相GaN和立方相微孪晶的取向、晶粒形状和极性等特征。结果表明外延中片状六角相与立方相之间的取向关系为:(111)//(0001)、<112>//<1010>。由于(111)Ga面的外延速度远高于{111}N面,导致较多六角相和立方相微孪晶在[110]或[110]方向上的(111)Ga面和(111)Ga面上形成,而在[110]或[110]方向上六角相和立方相微孪晶含量较低。外延中立方相微孪晶的含量明显低于六角相,表明六角相的形成可以更有效的释放局部应力集中。

  • 标签: 立方相 GAN 外延层 X射线四圆衍射分析 氮化镓 外延生长
  • 简介:测定贵州兴仁、兴义晚二叠世6个高砷无烟煤样品中As含量为33μg·g^-1-3.2%,Sb含量为8.10μg·g^-1-120μg·g^-1。对样品的矿物学研究表明,未发现任何含As或As的独立矿物,As是赋存在有机组分中。应用同步辐射X射线吸收精细结构仪测定样品中As的结构发现,赋存在高砷有机组分中的As与O配位,除在一个样品中As与3个O配位外,在其余样品中As均与4个O配位。因此,高砷中的As不是赋存在硫化物矿物中,而是赋存在砷酸盐或亚砷酸盐相中,且主要是砷酸盐相。

  • 标签: 赋存状态 同步辐射 扩展X射线 结构
  • 简介:分别测定了纯样和浸渍样的小角X射线散射,基于GBC理论假设,采用相关函数法计算了原位担载于两种烟煤上FeSO4的粒径分布,考察了助剂Na2S和尿素的添加对其粒径分布的影响,计算结果与XRD表征结果相似,FeSO4在两种样上的最可几粒径为4nm左右,分布范围为0.5-8nm,助剂对FeSO4粒径分布的影响较小,它们的添加主要是改变了催化剂前驱体的活性组成。

  • 标签: 煤液化 催化剂 粒径分布 相关函数算法
  • 简介:测定贵州兴仁、兴义晚二叠世6个高砷无烟煤样品中As含量为94.1μg·g^-1-3.2%,Sb含量为8.1-120μg·g^-1,对样品的矿物学研究表明,未发现任何含As或As的独立矿物,As是赋存在有机组分中,应用同步辐射X射线吸收精细结构仪测定样品中As的结构发现,赋存在高砷有机组分中的As与O配位,除在1个样品中As与3个O配位外,在其余样品中As均与4个O配位,因此,高砷中的As不是赋存在硫化物矿物中,而是赋存在砷酸盐或亚砷酸盐相中,且主要是砷酸盐相。

  • 标签: 高砷煤 赋存状态 同步辐射 扩展X射线 精细结构
  • 简介:利用双晶单色器和精密二圆衍射仪,在北京同步辐射装置建立了同步辐射X射线驻波实验技术,并用这一实验技术结合X射线衍射方法,研究了Si晶体中外延生长的超薄Ge原子的微结构。实验结果表明,由于Ge原子的偏析,在Si晶体样品中形成了共格生长的GexSi1-x合金,浓度平均值为X=0.13;650℃退火会使Ge原子向表面扩散,Si晶体中的合金消失,在晶体表面形成接近纯Ge的单原子

  • 标签: 同步辐射 X射线驻波实验技术 半导体超薄异质外延层 硅晶体 外延生长 超薄锗厚子层