简介:目的:对比研究3种不同根管预备系统在弯曲根管预备中的应用。方法:选自2012年1月至2015年1月103例有弯曲根管的牙髓炎或根尖周炎的患者患牙120颗,随机分为3组:手用不锈钢K锉组、PROTAPER组、Mtwo组,评价根管预备和填充的效果。结果:手动不锈钢K锉组、PROTAPER组、Mtwo组治疗成功率分别为92.31%、98.44%、98.50%。手动不锈钢K锉组操作时间为16.25±3.26min,PROTAPER组与Mtwo组的操作时间分别为7.22±2.11min、7.08±3.38min,显著短于手动不锈钢K锉组(P〈0.05)。手动不锈钢K锉组的并发症发生率为21.54%;PROTAPER组与Mtwo组的并发症发生率分别为5.47%、3.01%,显著低于手动不锈钢K锉组(P〈0.05)。结论:Mtwo和PROTAPER机用NiTi旋转系统对于弯曲根管的预备效果良好,二者之间无显著性差异,发生根管预备并发症的可能性明显低于手动不锈钢K锉。
简介:目的比较3种机用镍钛根管预备器械ProTaper、Mtwo、K3的根管预备效果。方法选取2009年9月至2010年9月在中国医科大学口腔医学院口腔外科新鲜拔除的54颗上颌第一磨牙的近中颊根,根据其根管弯曲度分成A组(弯曲度≥20°)和B组(弯曲度〈20°),每组再随机分成3个亚组(P组、M组、K组),分别采用镍钛锉ProTaper、Mtwo和K3进行根管预备。预备前后,分别拍摄数字x线片,利用计算机图像分析软件生成预备前根管几何中心线并投影至预备后根管,测定根管偏移量及根管弯曲度的变化并且通过扫描电子显微镜观察其中的21例样本根管预备后碎屑和玷污层的分布及评分。结果根管弯曲度≥20。时,根管弯曲起始处的根管偏移量及根管弯曲度减小量ProTaper组和Mtwo组均显著小于K3组(P〈0.05);根管弯曲度〈20°时,ProTaper、Mtwo、K3组间根管偏移量及根管弯曲度减小量差异均无统计学意义(P〉0.05)。扫描电镜下,P组、M组、K组3者根管冠1/3处碎屑评分差异无统计学意义(P〉0.05),而在根中1/3及根尖1/3处评分差异有统计学意义(P〈0.05),其中K组与P组、M组有显著差别(P〈0.05),3组各部分玷污层评分差异均无统计学意义(P〉0.05)。结论ProTaper、Mtwo、K3预备上颌磨牙轻度弯曲根管均具有良好的成形能力,Mtwo预备磨牙中、重度弯曲根管能更好维持原始根管走向;配合NaOCl和EDTA冲洗条件下,ProTaper和Mtwo对根管中下段的清理效果优于K3。
简介:目的:评价K锉、Safesiders锉和HEROShaper锉预备离体牙弯曲根管的成形效果。方法60颗根管弯曲的离体下颌前磨牙随机分为3组,分别用K锉、Safesiders锉和HEROShaper锉进行根管预备,根管预备前后分别往根管内注入复方泛影葡胺并拍摄X线片,分析根管预备后根管弯曲内外侧壁牙本质去除量、中心定位能力及根管直化角度。结果在根管弯曲内外侧壁所有观测点,Safesiders锉组和HEROShaper锉组牙本质去除量均少于K锉组(P均>0.05)。Safesiders锉组牙本质去除量多于HEROShaper锉组,但仅在根管弯曲内侧壁3和4mm观测点处差异有统计学意义(3mm:t=3.72,P<0.05;4mm:t=7.62,P<0.05)。在距根尖孔5mm以下观测点,Safesiders锉组和HEROShaper锉组中心定位能力优于K锉组(1mm:F=7.45,P<0.05;2mm:F=10.20,P<0.05;3mm:F=7.75,P<0.05;4mm:F=23.45,P<0.05;5mm:F=10.91,P<0.05);而在所有观测点上,Safesiders锉组与HEROShaper锉组差异均无统计学意义(P均>0.05)。Safesiders锉组和HEROShaper锉组根管直化角度均小于K锉组(F=58.95,P<0.05),但Safesiders锉组与HEROShaper锉组间差异无统计学意义(P>0.05)。结论K锉、Safesiders锉和HEROShaper锉预备离体牙弯曲根管均有不同程度的根管偏移,其中Safesiders锉和HEROShaper锉根管偏移较少,具有较好的根管成形效果。
简介:目的评价不同表面处理方法对激光预备牙本质形态学变化和黏结强度的影响。方法2013年5月至7月在中国医科大学附属口腔医院收集20~40岁新鲜拔除的活髓第三磨牙20颗及根尖发育完全的前磨牙8颗,铒、铬:钇钪镓石榴石(Er,Cr:YSGG)激光处理暴露的牙争面牙本质,然后按照不处理、37%磷酸酸蚀、自酸蚀及0.5mol/LEDTA调节各自分为4组,使用扫描电子显微镜(SEM)观察前磨牙牙本质处理面形态;第三磨牙使用Adpereasybond或Singlebond2黏结,Z350树脂逐层堆积树脂冠后,制作哑铃型试件进行微拉伸黏结强度测试,采用单因素方差分析进行组间差异比较。结果SEM观察发现:前磨牙激光预备后不处理组(对照组)牙面不规则,无玷污层,牙本质小管开放;磷酸酸蚀组牙本质表面最规则,自酸蚀组和EDTA处理组处理后表面变化不如磷酸酸蚀组明显。微拉仲黏结强度测试结果显示,第三磨牙分组后的3种处理方式牙本质黏结强度均显著高于对照组(P〈0.05),磷酸酸蚀组黏结强度最强(P〈0.05),而自酸蚀组及EDTA处理组差异无统计学意义(P〉0.05)。结论37%磷酸酸蚀、自酸蚀及0.5mol/LEDTA调节3种处理均可提高激光预备的牙本质黏结强度,37%磷酸酸蚀组获得最佳短期黏结效果。
简介:目的评价牙本质即刻封闭技术对牙体预备后活髓基牙牙本质敏感程度的影响。方法30例患者行后牙三单位固定义齿修复,每例口内有2颗活髓后牙参与实验,基牙随机分为实验组和对照组。实验组在基牙预备后行即刻牙本质封闭,随后取模。对照组在基牙预备后常规取模,不进行即刻牙本质封闭。1周后行最终修复,全冠粘接后1周、1个月、6个月、12个月和18个月时检查记录患者的牙本质敏感程度,并进行统计学分析。结果固定义齿粘接后1周及1个月,实验组出现敏感基牙数少于对照组(1周:Z=-1.88,P=0.03;1个月:Z=-2.15,P=0.02)。粘接后6、12及18个月两组敏感发生率间差异无统计学意义(6个月:Z=-0.69,P=0.30;12个月:Z=-0.41,P=0.69;18个月:Z=-0.42,P=0.52)。比较两组敏感程度结果显示,实验组敏感的基牙,敏感程度主要为1度;对照组主要为1度及2度。1周及1个月观察点两组疼痛程度差异有统计学意义(1周:P<0.05,1个月P=0.027)。结论活髓基牙牙体预备后行即刻牙本质封闭,可有效降低术后短期内牙本质过敏的发生率,减小患者的术后不适感。
简介:目的探讨逐步后退法、逐步深入法、被动逐步后退法(超声波与手用器械联合应用、三种不同方法预备后牙细弯根管对根管壁的清理能力及操作时间的差别。方法应用逐步后退法、逐步深入法、被动逐步后退法(超声波与手用器械联合应用)对45个新鲜拔除的人恒磨牙近中颊侧根管进行预备.并记录操作时间,将牙根纵向劈开,分为根冠1/3、根中1/3及根尖1/3,扫描电镜下评价其根管内壁牙本质碎屑和玷污层的形成情况。结果三种方法对根管清理能力差异无统计学意义(P〉0.05)而无论使用何种预备方法,其对根中1/3及根冠1/3处的清理能力优于根尖1/3部.两者差异有统计学意义(P〈0.05)。3种方法根管预备时间分别为:逐步后退法(12.8±1.26)min.逐步深入法(9.02±0.74)min,被动逐步后退法(超声与手用器械联合应用法)(12.21±1.90)min.三组差异无统计学意义(P〉0.05)。结论三种根管预备方法均不能达到完全的根管清理,尤其是对于根尖1/3部,清洁效果很不理想:总体上看,根中及根冠1/3清洁度显著优于根尖1/3。被动逐步后退法(超声与手用器械联合应用)及逐步后退法操作均较费时、费力,而逐步后退法根管预备时间略短于另两种方法且较省力。
简介:目的比较3种机用镍钛器械预备根管对根尖溢出碎屑的影响.方法选择2012年6月至2014年12月在中国医科大学附属口腔医院就诊的15~25岁患者因正畸需要而拔除的健康单根管前磨牙68颗,随机分为对照组、机用ProTaper组、Waveone组和Mtwo组,每组17颗.分别采用手用ProTaper镍钛锉、ProTaper机用镍钛锉、Waveone机用镍钛锉及Mtwo机用镍钛锉预备根管并冲洗根管,收集器械预备过程中的根尖溢出液,采用紫外可见分光光度计检测各组冲洗后根尖溢出液的光密度(OD)值,相对比较其根尖溢出碎屑的含量,分析不同机用镍钛器械预备根管对根尖溢出碎屑产生的影响.结果各组根尖溢出液OD值:对照组为68.65±11.47;机用ProTaper组为62.66±11.17、Waveone组为58.49±12.96、Mtwo组为47.70±10.28.除了机用ProTaper组与对照组间以及Waveone组与机用ProTaper组间差异无统计学意义外,其他各组间差异均有统计学意义(均P<0.05).结论使用Mtwo镍钛器械预备根管产生的根尖溢出碎屑明显少于ProTaper和Waveone镍钛器械.
简介:目的研究树脂粘接桥基牙牙体预备后有无牙本质暴露及牙本质暴露面积的大小。材料与方法收集20颗拔除的离体双尖牙,按照以下标准预备:舌侧及邻面预备0.5mm,近远中轴沟深1.0mm,近远中殆支托窝的颊舌向宽2.0mm、近远中向长1.5mm、深1.0mm。预备完成后用改良vanGieson法染色,以确定有无牙本质暴露。将离体牙固定到基台上,每旋转30°拍摄一张照片,将照片合成以获得牙齿的全景图像。图像经处理后,计算牙本质暴露面积及所占预备面积的比例。结果所有样本经预备后均出现牙本质暴露现象,平均牙本质暴露面积为11.06mm^2,占预备面积的16.15%。牙本质暴露面积最少为4.07mm^2,占预备面积的7.03%:最多为19.73mm^2,占预备面积的27.28%。结论如果按照现行的粘接桥牙体预备标准,牙体预备后必然会导致牙本质暴露。尽管通常推荐牙体预备应限于釉质内,但邻面轴沟区域牙本质暴露现象不可避免,颈部边缘也可能暴露牙本质。